نام :

نام خانوادگی :

ایمیل :

شماره موبایل



  • کوره ی تیوبی
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
  • کوره ی تیوبی
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
  • کوره ی تیوبی
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
  • کوره ی تیوبی
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
  • کوره ی تیوبی
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
    • کوره ی تیوبی خلا بالا
    • کوره ی تیوبی خلا بالا


سیستم لایه نشانی رسوب شیمیای بخار با تهییج پلاسمای RF (PECVD)




سیستم لایه نشانی رسوب شیمیای بخار با تهییج پلاسمای RF (PECVD)

پلاسما فیزیکی از ماده است که در واقع بخشی از اتم های یا مولکول ها را به یون تبدیل می نماید. این فرآیند ایجاد به پلاسما معمولاً در فشارهای پایین انجام می¬شود. این تغییر گاز به پلاسما منجر به انجام واکنش شیمیایی شده و در واقع عمل رسوب شیمیای بخار با استفاده از تبدیل گاز به پلاسما و حضور الکترون های پر انرژی در محیط انجام خواهد شد. بنابر این شما در حین استفاده از یک دستگاه رسوب شیمیایی بخار با تهییج پلاسمایی مشاهده می نمایید که فرآیند در یک دمای پایین تری نیز انجام خواهد شد که دلیل آن تبدیل گاز به پلاسما و جضور الکترون با سطح انرژی مشخص در سیستم است (دلیل نورانی بودن پلاسما). شما با استفاده از یک دستگاه PECVD در واقع فرآیند رسوب شیمیایی بخار (CVD) را در یک دمای پایین¬تری انجام خواهید داد. عمده محصولاتی که توسط فرایند رسوب شیمیای بخار با تهییج پلاسمای RF (PECVD) انجام می¬شود منجر به ایجاد یک لایه نازک (thin film) خواهد شد. این فرآیند عموماً برای رشد نیترید سیلیکون (SixNy)، دی اکسید سیلیکون (SiO2)، سیلیکون اکسی- نیترید (SiOxNy)، سیلسکونکاربید (SiC) و سیلیکون آمورف (α-Si) استفاده می¬شود. نیترید سیلیکون (SixNy)، دی اکسید سیلیکون (SiO2) به عنوان یک ماده دی الکتریک به طور معمول در ساخت تجهیزات الکترونیکی استفاده می¬شود. اگر شما به عنوان یک محقق و صنعت گر بر روی گرافن، نانوتیوب کربن، نیتریدتیتانیوم ، کربیدتیتانیوم و یا سایر پوشش های سخت کار میکنید پیشنهاد ما به شما سیستم رسوب شیمیایی بخار با تهییج پلاسما (PECVD) است. شرکت تسنیم کیمیای سیستم به عنوان یک شرکت متخصص بر روی انواع پوشش ها یک سیستم منحصر به فرد در سطح اول تکنولوژی را برای کاربران محترم تدارک دیده است. این سیستم علاوه بر مشخصات کامل یک سیستم رسوب شیمیای بخار حرارتی (TCVD) شامل یک منبع تهییج RF با فرکانس 56/13 مگاهرتز و توان 300 وات است (قابل افزایش با نیاز شما). همچنین سیستم گاز رسانی پیشرفته این سیستم از یک مجموعه 3 کاناله کنترل دبی با عنوان (Mass Flow Controller) یا MFC به دقت زیر 1% فول رنج بهره می برد. این سیستم در دو دمای 1200 درجه و 1500 درجه (1700 درجه و بالاتر بسته به نیاز مشتریان) ساخته شده و کنترل دمای آن با استفاده از سیستم PID نصب شده و قابلیت برنامه پذیری این سیستم که توسط نمایشگر لمسی نصب شده بر روی آن انجام می-شود. شما می توانید تمامی گراف های دمایی را توسط نرم افزار های MATLAB و LABVIEW بررسی نمایید. سیستم رسوب شیمیایی بخار با تهییج پلاسما (PECVD) تحت خلاء 3-10×8 میلی بار عرضه شده است که کنترل و خوانش فشار داخلی آن توسط یک فشار سنج (گیج) برند INFICON دانمارک برای شما امکان پذیر شده است. همچنین پمپ خلاء مورد استفاده در آن، یک پمپ روتاری دو مرحله ای است که بسته به درخواست کاربر از برندهای مختلف همچون لیبولد، ادوادز، واریان، ووسانگ و غیره تامین خواهد شد. در خصوص سایر مشخصات سیستم رسوب شیمیایی بخار با تهییج پلاسما (PECVD)به دو ویژگی اساسی آن اشاره می نماییم. اول) قسمت پلاسمای RF جهت حفظ سلامت کاربر توسط یک لایه محافظ جدا شده است دوم) عایق بندی دقیق بسیار مطلوب این سیستم که در یک کاور دو لایه قرار گرفته است. این موضوع علاوه بر جلوگیری هدر رفت انرژی گرمایی و مطلوب نگهداشتن دمای محیط در حین کار با سیستم رسوب شیمیایی بخار با تهییج پلاسما (PECVD)در کاهش مصرف برق مجموعه شما نیز بسیار موثر خواهد بود. از جمله ویژگی سیستم رسوب شیمیایی بخار با تهییج پلاسما (PECVD) • نمایشگر لمسی جهت اعمال 15 برنامه با 30 مرحله قابلیت اتصال به LABVIEW و MATLAB • سیستم کنترل PID جهت کنترل و پایش دقیق دمایی با اختلاف بیشنه 3 درجه • پمپ روتاری دو مرحله ای با فشار نهایی ضریبی از 3-10 میلی بار • گیج فشار سنج سنسورپیرانی و با دقت بسیار بالا ساخت شرکت INFICON دانمارک • سیستم کنترل هشدار فوق دما و فوق جریان در هنگام کاربری نا مناسب • عایق بندی مطلوب همراه با کاورینگدولایه جهت جلوگیری از اتلاف حرارت و کاهش مصرف برق دستگاه • نصب کنترل کننده فشار جهت خوانش فشار گاز ورودی • سیستم گاز رسانی سه کاناله با دقت بالا و زیر 1% فول رنج MFC • منبع تهییج RF مچ باکس یا تطبیق اتوماتیک با فرکانس 56/13 مگاهرتز و توان 300 وات (قابل افزایش بر اساس نیاز مشتریان) • عایق بندی شیلدRF جهت جلوگیری از آثار نامطلوب محیطی. لوازم جانبی: یک عدد تیوب کوارتز (1200 درجه سانتی گراد) یا تیوبآلومینا (1500 یا 1700 درجه سانتی گراد)، یک عدد بوته کوارتز (1200 درجه ) و آلومینا (1500 و 1700 درجه) ، یک جفت فلنجاستنلس استیل خلاء به همراه اورینگ و اتصالات مربوطه، دو عدد بلوک سرامیکی عایق جهت قرار دادن در ابتدا و انتهای تیوب، یک عدد هوک (قلاب) و یک عدد گیره. منبع پلاسما، سیستم گاز رسانی سه کاناله، سیستم خلاء

    تسنیم کیمیای سیستم

  • Tksco.ir@gmail.com
  • 09197877018
  • تهران، خیابان امین الملک، کوچه صبوری (رضوان)، مجتمع تجاری امام رضا (علیه السلام) رضوان

    درباره ی ما

    توسعه ابزار جهت افزایش بهره وری در ساخت مواد مورد نیاز بشر نقشی اساسی ایفا نموده است. در این بین تجهیزات راهبردی در آزمایشگاه ها و صنایع مانند سیستم های خلاء، سیستم های لایه نشانی و عملیات حرارتی، کوره های خلاء و منبع تغذیه از جمله مهم ترین این تجهیزات هستند. شرکت دانش بنیان تسنیم کیمیای سیستم با نشان تجاری (TKS) با تمرکز بر روی زمینه های اشاره شده همکاری نزدیکی با بدنه دانشگاهی و صنعتی را از سال 1391 آغاز نموده است. این شرکت هم اکنون با معرفی بیش از 50 نوع محصول از انواع کوره های خلاء، سیستم های خلا، سیستم های عملیات حرارتی، سیستم های لایه نشانی، پاورها (منبع تغذیه) با توان های متنوع و تارگت های اسپاترینگ لایه نشانی از جمله شرکت های دانش بنیان راهبردی کشور است. توسعه مناسبات تجاری منجر به همکاری بین المللیبا بزرگترین شرکت سازنده کوره های صنعتی عملیات حرارتی صنعت آلومینوم و خلاء، یعنی سکووارویک شده است و هم اکنون تسنیم کیمیای سیستم به عنوان نماینده انحصاری شرکت سکووارویک در ایران نقش آفرینی می نماید.

    میانبر

  • خانه
  • محصولات
  • سفارش گزاری
  • دانلود